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Facts
Levitronix® 펌프와는 다르게, 공압 펌프는 체크 밸브 및 기타 구성 요소들로 인하여 전단 응력 (Shear stress)을 유발할 수 있습니다. 펌프의 전단 응력은 슬러리의 응집을 유발할 수 있으며, 응집된 슬러리 입자는 CMP 공정에서 웨이퍼에 결함을 일으키는 미세 스크래치를 유발할 수 있습니다.
Test conditions
Levitronix® BPS-4 펌프, 다이어프램 펌프, 그리고 벨로우즈 펌프가 Cabot® WIN W7300-A18 슬러리의 특성에 미치는 영향에 대하여 평가하였습니다. 11리터의 슬러리를 30 lpm & 2.1 bar의 압력 조건에서 순환시키고 일정 시간 후 분석을 위해 시스템에서 샘플을 채취했습니다. 각 시료의 입자 사이즈 분포를 측정하여 초기 농도 대비 증가치를 기교하였습니다.
Results
입자의 사이즈와는 관계없이, Levitronix® 펌프에서는 슬러리 입자 사이즈 분포의 변화가 거의 관찰되지 않았습니다. 벨로우즈 및 다이어프램 펌프의 경우, 특히 큰 사이즈의 입자에서 상당한 농도 증가가 관찰되었습니다.
지정된 사이즈 채널에서의 초기 농도 대비 입자 농도
지정된 사이즈 채널에서의 초기 농도 대비 입자 농도
지정된 사이즈 채널에서의 초기 농도 대비 입자 농도
Microelectronics Pumps (BPS Series) 
Bioprocessing Pumps (Single-Use) 
Microelectronics Fans 
Control Units 