웨이퍼 패턴의 소형화 및 복잡성이 지속적으로 증가함에 따라, 반도체 Wet 공정에 대한 엄격한 요구 사항도 점차 증가하고 있습니다. 반도체 제조, 태양 전지 또는 LED와 같은 영역에서 다양한 공정 처리를 위한 많은 종류의 유체가 사용되고 있습니다. 이러한 공정에서는 초순수 유체의 안전하고 균일한 이송 및 처리가 가장 중요합니다.
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