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湿制程清洗/蚀刻中

最洁净的泵

 

为了满足对半导体制造污染物日益提高的敏感性，晶圆清洗已成为最关键的操作之一。尽可能地减少工艺设备的颗粒污染对于获得高良率至关重要。与Levitronix® 泵相比，气动泵会因止回阀、波纹管、隔膜和其他组件的摩擦产生磨损。磨损会导致碎屑颗粒脱落，从而导致晶圆缺陷。此外，气动泵的脉动流量会由于颗粒物的释放量增加而降低过滤器的性能。

Levitronix® 泵系统专门设计用于要求苛刻的湿制程清洗应用，在这些应用中，超纯净和无脉动处理将确保最高的良率。
益处

最洁净的泵

超低碎屑颗粒产生

Levitronix® 泵系统基于主动磁悬浮。叶轮与泵头机壳之间没有机械耦合，可以实现无磨损运行，因此几乎不会产生碎屑颗粒。

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增进过滤性能

无脉动泵送

压力和流量脉动已被证明会增加颗粒从过滤器中的释放，并限制其使用寿命。开放式泵头设计、离心泵原理和无阀门结构产生了完全无脉动流量，改善了过滤器性能并增加其使用寿命。

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Retention efficiency as a function of pressure pulsation

极低的微金属污染

接液表面积小

Levitronix® 泵的接表面积比具有类似液压性能的气动泵小好几倍。这减少了与酸性化学品的接触，从而减少了微量金属的渗出。

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Trace metal extraction of three Levitronix pumps compared to two diaphragm pumps
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应用手册: The Purest Pumps in Wet Cleaning / Etching
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